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　　測(cè)試鍍層厚度有專門(mén)的檢測(cè)儀，電鍍鍍層檢測(cè)儀?？赡艽蠹覍?duì)鍍層測(cè)厚儀不是很了解，這是檢測(cè)分析金屬鍍層厚度的儀器設(shè)備。目前在市場(chǎng)上，使用比較多的是X射線(XRF)熒光鍍層測(cè)厚儀，在使用中有喝多優(yōu)點(diǎn)，不論是測(cè)試對(duì)象還是測(cè)試方法，相對(duì)其他類型測(cè)厚儀都有優(yōu)勢(shì)。

iEDX-150WT鍍層測(cè)厚儀

　　一、鍍層測(cè)厚儀的特性：

　　若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個(gè)電子進(jìn)入K軌道，一個(gè)K軌道上的電子已事先被游離，另一個(gè)電子即代替他的地位，此稱之為K輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個(gè)電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L(zhǎng)輻射。同樣的L輻射可劃分為L(zhǎng)α輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ輻射，此是由N軌道之電子跳入L軌道中。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

　　鍍層測(cè)厚儀在開(kāi)始測(cè)試時(shí)候進(jìn)行幾次簡(jiǎn)單的測(cè)試工作，不僅是確保設(shè)備的可用性(正常性)，同時(shí)也檢驗(yàn)鍍層測(cè)厚儀各個(gè)接口是否符合標(biāo)準(zhǔn);

　　二、鍍層測(cè)厚儀的原理 

        1、首先對(duì)我們要了解XRF如何測(cè)量元素成分含量的： 

         一個(gè)元素的成分計(jì)算公式可以簡(jiǎn)單用下面的公式表示：F?I=C,(這里C是樣品含量，F(xiàn)是光譜中此元素比例系數(shù)，I是此元素在光譜中的激發(fā)強(qiáng)度)，首先標(biāo)樣中已知C(此處用百分比表示)，將此標(biāo)樣放入光譜，按著測(cè)試條件開(kāi)X射線激發(fā)標(biāo)樣，此時(shí)得到一個(gè)I的值，C/I=F(這樣就能計(jì)算出此元素的含量輕度比列系數(shù))。 

        之后，待測(cè)樣品放入光譜，同樣條件用X射線激發(fā)樣品，獲得待測(cè)樣品的I值，用這個(gè)I值乘以之前得到的F值，F(xiàn)?I=C 就能計(jì)算出此樣品的含量C的值，這就是XRF測(cè)量元素含量的基本原理。 

        2、鍍層測(cè)厚儀膜厚原理： 

        同理,Th=F?I （這里Th是厚度，單位微米或其他長(zhǎng)度單位） 

        首先也是用標(biāo)樣來(lái)標(biāo)定，求出此樣品的某元素鍍層厚度強(qiáng)度比F。 

        測(cè)試待測(cè)樣品時(shí)，用待測(cè)樣品的鍍層元素激發(fā)的I值乘以之前得到的F值，F(xiàn)?I=Th這樣就能計(jì)算出待測(cè)樣品的此元素鍍層厚度值。 

　　以上內(nèi)容是對(duì)鍍層測(cè)厚儀技術(shù)特征上面的講解，最后要提醒大家的是所得數(shù)據(jù)，不能只單看一面，要綜合多方面的測(cè)試結(jié)果，從而合理判斷，其中涉及到數(shù)據(jù)有MAX值、MIN值、誤差值以及平均值等等。