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鍍膜儀的一般故障處理方式解析

來(lái)源：上海進(jìn)與科學(xué)儀器有限公司   2025年08月28日 09:20   20
 　　在利用掃描電鏡分析非導(dǎo)電樣品時(shí)，因?yàn)闃悠返牟粚?dǎo)電性，會(huì)在樣品表面累積電離子，因此在成像過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的放電現(xiàn)象，嚴(yán)重影響圖像質(zhì)量。因此在觀察非導(dǎo)體時(shí)一般都要事先用鍍膜儀在試樣表面上蒸涂（沉積）一層重金屬導(dǎo)電膜，這樣既可以消除試樣荷電現(xiàn)象，又可以增加試樣表面導(dǎo)電導(dǎo)熱性，減少電子束造成的試樣（如高分子及生物試樣）損傷、提高二次電子發(fā)射率。
　　鍍膜儀當(dāng)接通高壓，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發(fā)出的電子在電場(chǎng)中被加速，繼續(xù)轟擊氣體，產(chǎn)生聯(lián)級(jí)電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時(shí)，靶材原子或者原子簇，脫離靶材，又經(jīng)過(guò)與等離子體中的殘余氣體碰撞，因此方向各異，當(dāng)落在樣品表面時(shí)，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜，而且與樣品的結(jié)合強(qiáng)度高。如果工作室中的氣體持續(xù)流動(dòng)，保持恒定壓力，這時(shí)的離子流保持恒定。高壓的功率決定了大離子流，一般有大離子流限制，用于保護(hù)高壓電源。
　　鍍膜儀的一般故障處理：
　　1.使用一段時(shí)間后濺射電流變小
　　處理：對(duì)靶材有無(wú)變色、破裂和油污等現(xiàn)進(jìn)行檢查。前兩者對(duì)靶材進(jìn)行更換，后者被油蒸汽污染，通過(guò)無(wú)水乙醇進(jìn)行清潔，等干了后才能夠抽真空。
　　2.使用一段時(shí)間后有過(guò)低的真空
　　處理：對(duì)濺射室中或管道內(nèi)是否有油進(jìn)行檢查，能夠使用汽油進(jìn)行清洗。
　　3.濺射電流忽高忽低
　　處理：陰極罩與靶的固定環(huán)有著過(guò)近的距離，將陰極罩逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，對(duì)間距進(jìn)行調(diào)整。
　　4.有著過(guò)低的真空
　　處理：將放氣閥、漏氣閥和觀察泵的油窗液面旋緊。
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